12345678910 >>     

書誌番号	0000043332
言語	jpn : 日本語
NACSIS ID	BN10527941
和洋区分	和資料
書名	光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現
書名カナ	ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン
著者名	高橋清 [ほか] 編著
出版事項	東京 : 工業調査会, 1994.3
形態	266p ; 21cm
分類	NDC8版 : 549.8 NDC8版 : 549
巻冊次表示	巻書名 ISBN 表示価格 書籍リンク 4769311222 3500円
著者名典拠	西澤, 潤一(1926-) 高橋, 清 (1934-)
件名	[個人名以外の件名] : BSH:半導体||ハンドウタイ//L [個人名以外の件名] : BSH:光化学||コウカガク//L [普通件名] : NDLSH:電子部品||デンシブヒン//K
注記	執筆者: 西澤潤一ほか 章末: 参考文献

該当件数：1件

	巻書名	所蔵ID	配架場所	請求記号	備考	返却予定日	ステータス	予約数
		10017905	一般	549   T			貸出可能	0

[予約]：チェックした資料に対し予約申込を行います[請求]：チェックした資料に対し請求票を印刷します

12345678910 >>